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我國科學家首次獲得納米級光雕刻三維結構

2022-09-15 09:11 來源:環(huán)球網(wǎng) 閱讀數(shù):1209

14日夜,國際頂級學術期刊《自然》發(fā)表了我國科學家在下一代光電芯片制造領域的重大突破。南京大學張勇、肖敏、祝世寧領銜的科研團隊,發(fā)明了一種新型“非互易飛秒激光極化鐵電疇”技術,將飛秒脈沖激光聚焦于材料“鈮酸鋰”的晶體內(nèi)部,通過控制激光移動的方向,在晶體內(nèi)部形成有效電場,實現(xiàn)三維結構的直寫和擦除。這一新技術,突破了傳統(tǒng)飛秒激光的光衍射極限,把光雕刻鈮酸鋰三維結構的尺寸,從傳統(tǒng)的1微米量級(相當于頭發(fā)絲的五十分之一),首次縮小到納米級,達到30納米,大大提高了加工精度。

這一重大發(fā)明,未來或可開辟光電芯片制造新賽道,有望用于光電調制器、聲學濾波器、非易失鐵電存儲器等關鍵光電器件芯片制備,在5G/6G通訊、光計算、人工智能等領域有廣泛的應用前景。

(總臺央視記者 周培培)

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